随着改革开放，中国的电子业获得了飞速发展，电子工业的各个领域均进行了技术革新和技术引入，并逐渐形成系统和理论。在 sAI - f 技术这个领域也获得了较大发展，甚至有的学院已经建立了关于 sN . ' l ' f 技术的专业。清洗是 sN1 ' f 工艺的一个重要组成部分，而对清洗后残存的离子污染物的测试则是对清洗工艺进行控制和监测的一个重要组成部分。环境不仅关系到人类的生活，并且对电子产品的使用寿命和稳定性产生重要影响。在二次世界大战期间，在战斗中使用的电信器材的损坏有 5 ( ) “是由于环境气候引起的腐蚀和霉变等造成的，而存放在库房中的产品的损坏率高达以）叹。由此，涂敷保护进入了电子业。而涂层是对外部环境的影响的阻隔，而在组装产品生产过程中弓｝入的微粒污垢、离子性导电污垢和有腐蚀作用的污垢，如果未加清洗，则涂层失去了保护的意义，因为其内部已经受到污染。而清洗后一定要有一种手段能够对其进行监控，即测试电路板是否已经达到了清洁标准。这就是要对离子污染进行测试的原因。美国最早对此进行了研究，并制定了相关标准。
什么是离子污染测试仪？离子污染物的特色是可溶于水，并且通常为有机或无机酸和盐。电子部件和元器件经常暴露于波峰焊、热空气环境、电镀、刻蚀和化学清洁的等工艺过程中的污染物。离子污染钡 l 试是用超纯净的萃取溶液从电子部件上移去工艺过程中留下的残余物。对清洁结果的钡 l 量是以传导率或电阻系数为评判依据，把钡 l 量值与标准比较。在此，标准是在纯的 75 " lP 刀 25 " 水溶液中钡 l 量氯化钠的传导率或电阻系数。依据决定需要给出此读数的 NaCI 的数量的方式，测试结果可以表示为一个传导率或电阻系数的函数，或更好地表示为在每单位样品面积上等量的氯化钠。一个样品测试读数为 4 . 5 微克 NaCI ／平方厘米，意谓着在测试结束时传导率或电阻系数等同于 4 . 5 微克 NaC ！给出的数据而不是实际钡 l 到了 4 . 5 微克 Nacl 。
离子污染测试仪的起源 l 试的起源最早记载的污染萃取测量方法是由贝尔实验室的’ f ．卜 Lgan 提出的。最初测试使用 l ( x ) % 去离子水。印第安那波利斯的海军航空电子中心进行了改进，他们使用 IP . , v 水的混和物来提高去除松香残余物。此方法需要一个人手动喷淋醇 l 水溶液到钡 l 试样品上面。一旦喷淋和收集的数量达到川 nll 每平方英寸测试样品的表面积，则停止啧琳并且侧量溶液的电阻值。此方式成为最原始的“测量方法” ( M IL 一 P 一 288 （为）。由于通过／失败限度，需要萃取的溶液必须有最小 2 入 p 的电阻值。， \ l 油 a mctal 的 Jack Br 曲、博士独立开发了以“动态”方式著名的改进技术。后来的影响使这些钡 l 试技术形成了两种主要类型的测试仪器一一静态和动态。
仪器用途：用于PCB电路板清洗工序前后离子污染程度的测试
仪器特点：1.结构采用全封闭循环系统2.测试方法：静态/动态一体。3.可根据客户要求容量定制
